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“这……我首先代表A**L感谢余总大力支持。同时，也对因为我们而使香积电正常生产可能的受损，深表歉意！不过，我想强调的是目前信息都只是道消息，真实性到底怎么样，还有待进一步确认！”李斯特，尴尬的笑了笑，对着余子贤等人到。
十天前，也就是11年月6日，被A**L寄予厚望的PAS 55光刻机在美国和曰同步隆重推出。
这一次A**L推出了的PAS55 扫描式步进光刻机，拥有此时半导体行业领先的生产力和分辨率，一经发售，短短几天就被欧美各大厂商青睐。此时在曰也已经引起了芝和日立等曰土厂商关注。
而历史上，也正是PAS 55取得了巨大成功。就是在二十年后，任有55系列的机子被大量使用，由此可见PAS 55系列的光刻机产品的性能和稳定性。
正是这55系列的推出，标志着A**L 在欧美厂商的支持下开始走向成熟。
不同于A**L成立之初推出坑爹的油压机械式PAS ，186 年，A**L公司采用新的对中技术推出 PAS 5 步进式光刻机，开始在市场上建立起一定的名气，同年与镜片制造商Carleiss建立合作伙伴关系。
有了PAS 5型光刻机带来的市场和利润，A**L励图治，在今年也就是十天前正式推出了PAS 55型光刻机。
只是，PAS 55为A**L赚足了眼球和大量订单的同时，也让尼康为首的一帮曰厂商警惕，警惕这个之前一直未曾瞧在眼里的光刻机弟弟。
看到半导体厂商开始份份接触A**L，以及心急的已经下了订单，尼康和佳能也坐不住了，开始联系半导体制造大厂。
只是除了曰的厂商积极赴约之外，其他的欧美厂商只是客气答应，但就是不见人影。
不过这也可以理解的。半导体设备的更新换代，推动半导体工艺、半导体产品及整个电子装备的更新。
因此，从质上讲，半导体设备不仅支撑集成电路产业的发展，同时也支撑整个电子信息产业的发展。
半导体设备包括前道设备、后道设备、制版设备、材料制备设备等，其中最为关键的是前道微细加工设备(包括对半导体芯片进行曝光、刻蚀、掺杂、薄膜生长等工艺加工的设备，以及测量设备)。
而微细加工技术的核心，是微细光刻技术，光光刻设备的进步。
自世纪8年代后期，光光刻技术的重点由Q线转向i线和准分子。到年代初i线光刻开始应用。。
在A**L推出PAS-55之后，后续日厂商陆续推出了自己第一款i线步进投影光刻机，比如曰Nikn NSR1775iTA型，Cann FPA-i型，日立LD-515iCW型，美国Vstrastepi和44i型等。
这些机型均可实现5μ分辨率，满足16DRA芯片，光刻6-8英寸的片子。
简而言之，就是PAS开了一个技术先河，当起了这个时候光刻机发展的领头羊。
不是尼康的技术不先进，而是A**L打破了以往尼康和佳能独霸的局面，这是除曰之外的各大半导体生产厂商所喜闻乐见的。
正因为此，看其他各大厂商对于自己的邀请无动于衷，尼康不由恼了，于是邀请曰的其他半导体产业链上的曰厂家，共商半导体设备、材料供应大会。
紧接着第二天，就流出了半导体制造耗材供应紧张的消息。而香积电也接到了以往丸红株式会社1微米光刻对应光刻胶供应可能断供或者推迟的通知。
当然某些事情，尤其是刚刚和美国签署了《日美半导体第二次协议》的曰半导体界。这些曰半导体产业链上巨头不敢明目张胆的威胁，但是私底下散步一点道消息，也是可以让一些人再次审时度势的。
于是，尼康在前天正式召开通知各大厂商，将在十月下旬，正式推出自己尼康的第一款i线步进投影光刻机NSR1775iTA，邀请欧美各大厂商参观采购。甚至之前一直被A**L占据优势的苔积电、联华电等都在邀请列，向A**L和选择了A**L光刻机的厂商示威意图很是明显。
之前，陈渡进来就是个余子贤通知金智江打探到的最新消息，以及一份有关曰半导体界报纸的电报。
简而言之，这一次，香积电包括苔积电等之前选择了A**L光刻机的厂商，这一次可能要因为尼康对A**L的示威当一次“池鱼”了。
因为PAS 55，A**L城门可能要失火，只是像香积电这样的厂商却提前连带遭了殃。
所以，在刚刚李斯特A**L对于半导体材料供应也没有办法的时候，余子贤玩味的盯着他看了好一会儿，甚至带上了一丝丝揶揄的味道。
余子贤知道了事情的前因后果之后，就知道现在这个时期不是自己能够做参与其中的了。
但是A**L可不一样，哪怕是他发动各种关系，也要完成这一次因为他引发的A**L阵营厂家半导体材料供应的危机，哪怕是请出飞利浦以及未来的美国爹，也要和平处理好这件事情……
这事关A**L脸面和腰杆……退无可退。