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，机电部45所开展了分步光刻机的研制，对标的是米国的48DSW。
185年，研制出了样机，通过电子部技术鉴定，认为达到48DSW的水平。
这是中国第一台分步投影式光刻机，采用的是436纳米G线光源，与国外的差距不超过7年！
1年3月，中科院光电所研制的IOE11G直接分步重复投影光刻机样机通过评议，工作分辨率15微米，主要技术指标接受米国GCA8型的水平，相当于国外8年代中期水平，差距在五年！
如果不是技术封锁和专利掣肘，国内现在一定不比国外差！
来就不比国外落后多少，而且，国内的光技术甚至领先国际！
又加上赵岂年的原因，知道如何打破技术壁垒，一下子跑过了弯道，实现了超车！
在此基础上，再度连续突破，更是天经地义的事情！
而且，在科技界，一旦有了技术积累，在积累的基础上进行突破，会简单很多！
一旦领先，处处领先，甚至不需要担心专利的掣肘！
“被什么卡住了？？”，赵岂年思考了一会后，问道。